円筒キャビティの位相制御加熱シミュレーションの解析事例を公開しました。

位相制御加熱は位相差を与えてマイクロ波を入力することでキャビティ内の電磁界分布、ひいては加熱分布を制御する手法です。一般の電子レンジのマイクロ波源に使われているマグネトロンは出力の安定性に欠け、位相制御は困難でした。しかし、安定したマイクロ波を出力できる半導体発振器の発展により、位相制御を用いた加熱分布の集中や均一化の研究が盛んです。
今回は円筒キャビティに対して位相制御した際の電磁界分布を電磁波解析ソフトKeyFDTDでシミュレートしました。TM110モード、TE111モードの2つの電磁界モードで位相制御を行い、位相差0、90、180度を与えた際の電磁界分布を観測し、位相差90度でキャビティ内部高さ中心の平面電界分布が均一に近づく様子が確認できました。詳細はこちらから。ぜひご覧ください。